CyberOptics® Corporation (NASDAQ: CYBE), desarrollador y fabricante de soluciones de tecnología de sensores 3D de alta precisión líder en el mundo, estará presente en la 31ª conferencia europea de máscaras y litografía (EMLC en sus siglas en inglés) de 2015, en el hotel Pullman de Eindhoven el 22 y 23 de junio. La conferencia de dos días se centra en la ciencia, tecnología, ingeniería y aplicación de las tecnologías de máscaras y litografía y los procesos relacionados.
Allyn Jackson, ingeniero de aplicaciones de campo en CyberOptics, compartirá sus conocimientos, mejores prácticas y saber hacer técnicos para identificar y resolver partículas en entornos fotolitográficos. La sesión de pósters tendrá lugar el lunes, 22 de junio de 2015 entre las 17:30 y las 18:40 en la sala Winteruin de la exposición técnica.
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- Business Wire
